Двулучевые

Двулучевые системы

Двулучевые (Focused ion beam / Scanning electron microscope) системы являются предпочтительным решением для:

  • 3D-микроскопии и анализа,
  • исследования рабочих материалов,
  • анализа промышленных дефектов и приложений
  • управления технологическими процессами.

Они предназначены для выполнения встроенной пробоподготовки и микроанализа с разрешением ниже 1 нм для полупроводников с высокой пропускной способностью и предприятий хранения данных, материаловедения и биологических лабораторий.

Двулучевые системы можно использовать как для анализа электроники, природных ресурсов, так и в области биологических наук.

В основе системы лежит уникальная технология, объединяющая травление сфокусированным ионным лучом и анализ при помощи сканирующего ионного микроскопа. Автоматическое последовательное травление, позволяющее получить серию двухмерных изображений, дает возможность создать объемную трехмерную модель. Используя полученные данные, можно изобразить структуру порового пространства и рассчитать размеры до микрона.

Фильтр по товарам
Фильтр по типу «Применение»

Наука о живом

Электроника

Природные ресурсы

Материаловедение

Металлургия

Фильтр по названию
Применить фильтр
Сбросить параметры
Двулучевой растровый электронный микроскоп FEI  Helios G4
Диапазон тока пучка
от 1 пА до 400 нA
Ускоряющее напряжение
Электроны 20 В - 30 кВ
Ионы - 0,1 пA - 65 нA
Двулучевой растровый электронный микроскоп FEI Scios 2
Разрешение в ионах
3 нм
Диапазон тока пучка
от 1 пА до 400 нA
Helios NanoLab™ DualBeam™
Разрешение в режиме электронного пучка
до 0.8 нм
Максимальный диаметр образца
100 мм
Растровый двухлучевой электронный микроскоп  Quanta™ 3D DualBeam™
Разрешение в режиме электронного пучка
до 1.2 нм
Разрешение в режиме ионного пучка
до 7 нм
Versa 3D DualBeam™
Разрешение в режиме электронов
до 0.8 нм
Certus-3D Wafer
Диаметр обрабатываемого образца
200 мм и 300 мм
Пропускная способность
20 образцов в час