Двулучевые

Двулучевые системы

Двулучевые (Focused ion beam / Scanning electron microscope) системы являются предпочтительным решением для:

  • 3D-микроскопии и анализа,
  • исследования рабочих материалов,
  • анализа промышленных дефектов и приложений
  • управления технологическими процессами.

Они предназначены для выполнения встроенной пробоподготовки и микроанализа с разрешением ниже 1 нм для полупроводников с высокой пропускной способностью и предприятий хранения данных, материаловедения и биологических лабораторий.

Двулучевые системы можно использовать как для анализа электроники, природных ресурсов, так и в области биологических наук.

В основе системы лежит уникальная технология, объединяющая травление сфокусированным ионным лучом и анализ при помощи сканирующего ионного микроскопа. Автоматическое последовательное травление, позволяющее получить серию двухмерных изображений, дает возможность создать объемную трехмерную модель. Используя полученные данные, можно изобразить структуру порового пространства и рассчитать размеры до микрона.

Фильтр по товарам
Фильтр по типу «Применение»

Наука о живом

Электроника

Природные ресурсы

Материаловедение

Металлургия

Фильтр по названию
Применить фильтр
Сбросить параметры
CLM-3D™ Fully-automated Fab
Диаметр обрабатываемого образца
200 мм и 300 мм
Интерфейс
Графический IC3D
Режим работы
Автоматический
Defect Analyzer 300 HP
Напряжение электронного пучка
200 В - 30 кВ
Напряжение ионного пучка
5 кВ - 30 кВ
Разрешение в режиме электронов
5 нм
Пользовательский интерфейс
Icon-привод, WindowsTM 2000 GUI